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真空镀二硫化钼

真空镀二硫化钼
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比尔安达
真空镀二硫化钼
比尔安达
高教
上海 宝山区
详细说明

  性能优势

  · Coating deposition carried out using a high density of low energy bombarding ions.

  使用高密度低能量轰击离子进行沉积镀膜。

  · Deposition of very dense, non-columnar coating structures with low internal stresses.

  镀层致密度好,低柱状晶结构,内应力低

  · Deposition of coatings with dense structures at low temperatures.

  ? 可在低温环境下沉积致密结构的镀层

  · High efficiency of ion cleaning resulting in coatings with the highest levels of adhesion.

  率等离子清理以提供高的镀层结合强度。

  · Coatings quality is assured by the use of specially designed Plasmag sputter sources, which create an intense plasma and high ion bombardment of work pieces.

  镀层品质保证是由使用专门设计plasmag溅射源及提供高密度的等离子。

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