化学气相沉积设备

　　摘要：本实用新型涉及高熔点金属(难熔金属及贵金属)化学气相沉积制备所用的专用设备。设备由3部分组成：(一)主体结构；(二)动力传动装置；(三)气体调配系统。主体部分结构由5个功能部件组成，分别为：沉积室(I)，密封室(II)，蜗轮箱(III)，升降操纵箱(IV)，热电势信号接转装置(V)。本实用新型在于实现基体沉积件在高温、高真空或多种气氛(氩气、氧气、氯气、一氧化碳以及甲烷等)条件下，按设定参数进行材料的沉积，基体可进行轴向圆周、螺旋以及自动循环运动。输入温度、气氛压力和流量均可精确控制。所制备的难熔金属和贵金属材料的致密性达到或接近理论密度，硬度(耐磨性)超过熔铸和粉末冶金法生产的同类材料。

专利类型实用新型
申请人贵研铂业股份有限公司;
发明人胡昌义;雷春明;毛勇;郭锦新;李靖华;周世平;徐云;王云;欧阳远良;
地址650221云南省昆明市二环北路核桃箐
申请号CN200520022499.2
申请时间2005年06月06日
申请公布号CN2851277Y
申请公布时间2006年12月27日
分类号C23C16/44(2006.01);C23C16/455(2006.01);C23C16/46(2006.01);C23C16/458(2006.01);