摘要：一种小型磁控溅射镀镆机，涉及一种镀镆机，所述镀镆机包括上开盖结构的圆柱型真空室、加热旋转样品台、磁力耦合器、磁控溅射靶、涡轮分子泵、挡板阀、隔膜泵、全量程规、冷却水循环系统、机箱；圆柱型真空室上部安有一个上盖，上盖由两根气压杆支撑，由旋纽锁紧，两只磁控靶倾斜安装，其中心延长线正对加热旋转样品台的中心；加热旋转样品台位于圆柱型真空室的底部，安装于磁力耦合器之上；挡板阀上面设有全量程规，并且连接在涡轮分子泵之上。本实用新型采用PLC+触摸屏控制，具有操作维护简单、装样、取样方便、组合灵活，体积小巧，所以搬运、安装方便，特别适合于学院教学、科研使用。
- 专利类型实用新型
- 申请人沈阳科晶自动化设备有限公司;
- 发明人李双江;张旭;赵闯;
- 地址110171 辽宁省沈阳市浑南新区学风路26-2-7号5门
- 申请号CN201620962923.X
- 申请时间2016年08月29日
- 申请公布号CN206069996U
- 申请公布时间2017年04月05日
- 分类号C23C14/35(2006.01)I;
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