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    一种上曝光光固化3D打印装置

      摘要:本实用新型涉及一种上曝光光固化3D打印装置,包括扫描机构、树脂槽、升降机构、成型网板,其特征在于:还包括透明的窗口组件,所述窗口组件水平固定设置在树脂槽上部,窗口组件下端面浸没在树脂内,上部边缘位于树脂液面上方;所述窗口组件底部贴附透明隔离膜;所述扫描机构工作时,成型网板在升降机构的带动下自贴近透明隔离膜的位置逐层向下移动。从而避免涂覆机构刮坏固化件的现象,省去了涂覆和树脂流平两个工艺步骤,缩短了时间,提高了设备的工作效率。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人上海数造机电科技股份有限公司;
    • 发明人陈方;赵毅;聂孟威;上官丽萍;
    • 地址201399 上海市浦东新区惠南镇沪南公路8666弄11号一层、二层
    • 申请号CN201620865340.5
    • 申请时间2016年08月11日
    • 申请公布号CN205889910U
    • 申请公布时间2017年01月18日
    • 分类号B29C67/06(2006.01)I;B33Y30/00(2015.01)I;B33Y40/00(2015.01)I;