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    基于不等式约束的辅助电容集中式单箝位MMC自均压拓扑

      摘要:本实用新型提供基于不等式约束的辅助电容集中式单箝位MMC自均压拓扑。单箝位MMC自均压拓扑,由单箝位MMC模型和自均压辅助回路联合构建。单箝位MMC模型与自均压辅助回路通过辅助回路中的6N个IGBT模块发生电气联系,IGBT模块触发,两者构成基于不等式约束的辅助电容集中式单箝位MMC自均压拓扑,IGBT模块闭锁,拓扑等效为单箝位MMC拓扑。该单箝位MMC自均压拓扑,可以箝位直流侧故障,同时不依赖于专门的均压控制,能够在完成直交流能量转换的基础上,自发地实现子模块电容电压的均衡,同时能相应降低子模块触发频率和电容容值,实现单箝位MMC的基频调制。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人华北电力大学;
    • 发明人赵成勇;许建中;刘航;
    • 地址102206 北京市昌平区回龙观镇北农路2号
    • 申请号CN201620068891.9
    • 申请时间2016年01月25日
    • 申请公布号CN205754029U
    • 申请公布时间2016年11月30日
    • 分类号H02M7/219(2006.01)I;H02M1/00(2007.01)I;H02J3/36(2006.01)I;