摘要：本实用新型公开了一种球面靶阴极机构及溅射镀膜装置，本实用新型的球面靶阴极机构主要是用来对半球面形状的基材进行溅射镀膜，因此，整个球面靶阴极机构的设计都是基于半球面形状的基材而设定的。具体来说，球面靶阴极机构包括水冷座，靶材，磁钢部件。水冷座的安装台外表面为半球形状表面，所述安装台的半球形状表面上对应安装有所述靶材，使得所述靶材形成球面靶；另外，在所述安装台的内部设置有密封体来密封磁钢部件，并且将磁钢部件排列在所述密封体的半球形状内表面上，用来对半球面形状的基材进行溅射镀膜。
- 专利类型实用新型
- 申请人成都西沃克真空科技有限公司;
- 发明人徐子明;向勇;傅绍英;闫宗楷;李乐;
- 地址610200 四川省成都市双流县蛟龙工业港（双流园区）东海路六段680号
- 申请号CN201620267221.X
- 申请时间2016年03月31日
- 申请公布号CN205688005U
- 申请公布时间2016年11月16日
- 分类号C23C14/35(2006.01)I;
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