摘要：本实用新型提出了一种离子汞催化装置。所述离子汞催化装置包括温控装置和加热装置，所述温控装置包括温控器以及热电偶，所述加热装置包括加热棒及加热腔，其中，所述温控器及所述加热腔分别位于同一壳体内的第一腔体和第二腔体内部，所述第一腔体和所述第二腔体之间设置有高性能隔热板材。通过使用本实用新型所述的离子汞催化装置，能够将温控系统与加热系统布置在统一装置内，有效的缩小反应装置的体积，便于携带。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京雪迪龙科技股份有限公司;
- 发明人杨露露;
- 地址102206 北京市昌平区回龙观国际信息产业基地3街3号
- 申请号CN201620486853.5
- 申请时间2016年05月25日
- 申请公布号CN205643268U
- 申请公布时间2016年10月12日
- 分类号G01N31/10(2006.01)I;G01N1/22(2006.01)I;
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