摘要:本实用新型公开了一种逆反射标志测量仪,其技术方案要点是包括光学暗箱和光源,光源设置在光学暗箱内,光学暗箱的表面设置有开口,开口处设置有遮挡开口的试样,光学暗箱上设置有调节槽,调节槽内设置有对试样反射的光进行引出的光纤,光纤连接有对光纤引出的光进行检测的光探测器,调节槽处设置有固定组件,光纤通过固定组件与光学暗箱可拆卸固定连接,达到了方便进行多角度测量的目的。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京中交工程仪器研究所;
- 发明人杨宗文;
- 地址102600 北京市大兴区黄村镇刘一村委会西500米
- 申请号CN201620340310.2
- 申请时间2016年04月21日
- 申请公布号CN205620301U
- 申请公布时间2016年10月05日
- 分类号G01N21/47(2006.01)I;