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  • 教育装备采购网首页 > 知识产权 > 专利 > CN205620299U

    逆反射标志测量仪

      摘要:本实用新型公开了一种逆反射标志测量仪,其技术方案要点是包括光学暗箱和光源,光源设置在光学暗箱内,光学暗箱的表面设置有开口,开口处设置有遮挡开口的试样,光学暗箱上设置有调节槽,调节槽内设置有对试样反射的光进行引出的多根光纤,每根光纤与试样的一个放置角度相对应且每根光纤连接一个对光纤引出的光进行检测的光探测器,调节槽处设置有带有夹持槽的固定组件,夹持槽内可拆卸固定连接有至少两个塞尺,塞尺将夹持槽分隔成多个夹持腔,光纤夹持于夹持腔内,光纤通过固定组件与光学暗箱可拆卸固定连接,达到了能够进行多角度测量且调节方便、准确以及快速的目的。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人北京中交工程仪器研究所;
    • 发明人杨宗文;
    • 地址102600 北京市大兴区黄村镇刘一村委会西500米
    • 申请号CN201620340361.5
    • 申请时间2016年04月21日
    • 申请公布号CN205620299U
    • 申请公布时间2016年10月05日
    • 分类号G01N21/17(2006.01)I;