摘要：本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种双通道类金刚石碳膜沉积装置，真空室的上盖与真空室的室底相对，真空室的侧壁连接上盖和室底；阳极靶和阴极靶设置在真空室的内部，阳极靶与阴极靶相对设置，阴极靶位于真空室的室底与阳极靶之间；驱动机构穿过室底与阴极靶相连；第一连接通道和第二连接通道在并联后，串联在抽真空装置和真空室之间，连通抽真空装置与真空室，第一连接通道的直径为第二连接通道的直径的3倍；第一调节阀设置在第一连接通道与真空室连通处；第二调节阀设置在第二连接通道与真空室连通处。本申请通过在抽真空装置与真空室之间设置两个连接通道，通过对两个连接通道的开闭程度的调节，能够精确的控制沉积装置内部气流的均匀性。
- 专利类型实用新型
- 申请人成都西沃克真空科技有限公司;
- 发明人向勇;傅绍英;徐子明;杨小军;孙力;
- 地址610200 四川省成都市双流县蛟龙工业港（双流园区）东海路六段680号
- 申请号CN201620267625.9
- 申请时间2016年03月31日
- 申请公布号CN205529027U
- 申请公布时间2016年08月31日
- 分类号C23C16/26(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;
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