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    平带沉积气路装置

      摘要:本实用新型涉及一种平带沉积气路装置,具有真空室及设于真空室内的托板,在真空室截面上设置上隔板及下隔板将真空室分成上下三层,上部为进气混气层,中部为基带与气体反应层,下部为抽气层,上隔板及下隔板上设有气孔,托板安装于气体反应层中。本实用新型可使气路中气体充分混合均匀,压力和流量稳定,保证工艺气体能垂直流过基带的表面与基带充分接触,沉积的薄膜均匀,提高了产品质量。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人沈阳腾鳌真空技术有限公司;
    • 发明人慈连鳌;
    • 地址110101 辽宁省沈阳市苏家屯区大淑堡瑰香街83-5号
    • 申请号CN201520493170.8
    • 申请时间2015年07月09日
    • 申请公布号CN204779799U
    • 申请公布时间2015年11月18日
    • 分类号C23C16/455(2006.01)I;