摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射靶枪，所述磁控溅射靶枪为圆柱形磁控溅射靶枪，包括基座、磁靶和靶材，所述磁靶固定于基座之上，所述靶材通过旋转轴固定在磁靶上；所述磁靶包括磁芯和环状磁铁座，所述环状磁铁座上设有均匀排列的磁铁块，形成中心-外环的环状磁靶设计；所述磁芯和磁铁座环之间设有冷却装置，所述冷却装置包括上下两个无氧铜水冷以及位于上下两个无氧铜水冷之间的导热板。所述的磁控溅射靶枪采用的独特的中心-外环的环状磁靶设计，使磁场全面覆盖靶材，提高靶材的利用率；采用上下两个无氧铜水冷之间设置导热板形成冷却装置，及时有效的将磁靶运转中产生的热量散发出去，保证其长期运转的稳定性，溅射均匀，以得到质量优良的薄膜。
- 专利类型实用新型
- 申请人厦门烯成新材料科技有限公司;
- 发明人王振中;
- 地址361015 福建省厦门市火炬高新区创业园伟业楼南楼S301C室
- 申请号CN201520477129.1
- 申请时间2015年07月04日
- 申请公布号CN204779787U
- 申请公布时间2015年11月18日
- 分类号C23C14/35(2006.01)I;
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