摘要：本实用新型公开一种用于色谱填充的核壳颗粒，其采用无孔SiO2颗粒作为核，采用两相法在其表面修饰多孔SiO2壳层，且SiO2壳层具有放射状孔结构，修饰好的SiO2核壳颗粒表面的孔径、壳层厚度及比表面积为可控、壳层厚度可在10-500nm之间调节。
- 专利类型实用新型
- 申请人上海通微分析技术有限公司;
- 发明人阎超;瞿其曙;
- 地址201203 上海市浦东新区张江高科技园区松涛路489号C01座
- 申请号CN201520148651.5
- 申请时间2015年03月16日
- 申请公布号CN204564161U
- 申请公布时间2015年08月19日
- 分类号B01J20/283(2006.01)I;B01J20/10(2006.01)I;
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