摘要：本实用新型公开了一种直写式光刻装置，包括底座、平行设置于底座上的两个支架，设置在一个支架上的对准系统，以及设置在另一个支架上的曝光系统，底座上平面位于对准系统与曝光系统的下方还设置有至少包括两个扫描台的扫描系统，所述扫描台的上端分别设置有一水平的载物台面，本实用新型通过增加一个扫描台，可以缩短曝光系统等待上料、对准和下料的时间，同时缩短对准系统等待上料、曝光和下料的时间，简言之，提高了对准系统和曝光系统的使用率。
- 专利类型实用新型
- 申请人苏州微影光电科技有限公司;
- 发明人吴斌;朱亮;王友车;薛业保;张国龙;
- 地址215636 江苏省苏州市张家港市大新镇海坝路苏州微影光电科技有限公司
- 申请号CN201520022610.1
- 申请时间2015年01月13日
- 申请公布号CN204347441U
- 申请公布时间2015年05月20日
- 分类号G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;
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