摘要：本实用新型涉及一种ITO玻璃刻蚀浸泡槽，它包括外槽体、内槽体、多根转轴、设置在循环机构，所述转轴在所述内槽体顶部两侧分别形成溢流口，所述内槽体内安装有水平设置的第一匀压板以及安装在所述第一匀压板上方的第二匀压板，所述第一匀压板上均布有多个第一通孔，所述第二匀压板上均布有直径比所述第一通孔直径小的多个第二通孔，所述第一匀压板下方安装有多个第二喷淋管，所述第二喷淋管的喷淋口朝向所述内槽体底部。一方面通过在第二匀压板上设置第二通孔，第一匀压板上设置第一通孔，第二通孔的直径小于第一通孔；另一方面将第二喷淋管的喷淋口朝向内槽体底部，这样有利于提高内槽体内刻蚀液保持稳定，从而提高刻蚀液对ITO玻璃刻蚀的均匀性。
- 专利类型实用新型
- 申请人苏州晶洲装备科技有限公司;
- 发明人施利君;徐鸽;
- 地址215555 江苏省苏州市常熟市辛庄镇光伏产业园光华环路32号
- 申请号CN201420846060.0
- 申请时间2014年12月26日
- 申请公布号CN204281587U
- 申请公布时间2015年04月22日
- 分类号C03C15/00(2006.01)I;
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