摘要:本实用新型公开了一种半导体立式热处理设备的工艺管排气装置,将半导体立式热处理设备工艺管的排气口与连通排气管路的排气管采用法兰相对接,法兰连接面之间具有间隙,并设有密封圈密封,在一侧法兰的连接面位于密封圈与法兰内壁之间处设有吹气口,吹气口通过法兰本体内的吹气腔道连通至吹气进气口,二侧法兰通过夹紧调节机构相固连;冷却吹扫气体经由吹气进气口、吹气腔道、吹气口进入法兰连接面之间的间隙,起到阻隔高温尾气、冷却密封圈及调节排气管内部温度和压力的作用,此外,在工艺处理前,通过气体吹扫,还可以达到净化排气管路的效果。本实用新型具有密封性好、提高耐温性、结构设计简单和具有可调性等显著特点。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人徐冬;宋新丰;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN201420243244.8
- 申请时间2014年05月13日
- 申请公布号CN203859104U
- 申请公布时间2014年10月01日
- 分类号H01L21/324(2006.01)I;