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    一种等位近距离薄膜沉积生长系统

      摘要:本实用新型公开了一种等位近距离薄膜沉积生长系统,它包括箱体,箱体上设有炉体,炉体两端设有支撑杆,炉体的下端设有下法兰,下法兰上端通过下加热台支撑架固定连接有下加热台,下加热台上设有载物台,炉体的上端设有上外接法兰,上外接法兰下端通过上加热台支撑架固定连接有上加热台,所述的支撑杆上设有旋转支撑架,该旋转支撑架包括转动连接在支撑杆上的固定座和固定螺栓,该固定座和固定螺栓之间垂直设有导向杆,导向杆上滑动连接一升降杆,升降杆与上外接法兰固定连接;本实用新型一种等位近距离薄膜沉积生长系统,它结构简单,操作便捷,可以实现等位沉积,准确控制基片正反面温场,解决了分子漂移扩散损耗问题,和长距离的温度线性不稳定等问题,同时可以实现快速升降温,节约了工时功效。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人安徽贝意克设备技术有限公司;
    • 发明人孔令杰;
    • 地址230041 安徽省合肥市庐阳区濉溪路312号
    • 申请号CN201320213916.6
    • 申请时间2013年04月25日
    • 申请公布号CN203373416U
    • 申请公布时间2014年01月01日
    • 分类号C23C14/24(2006.01)I;