摘要：本实用新型公布了一种ICP-MS分析系统，所述分析系统包括ICP源、检测器；所述分析系统进一步包括：线性离子阱，所述线性离子阱设置在所述ICP源和检测器之间。本实用新型具有更高的碰撞碎裂效率、更多的离子-分子反应通道、以及提供高灵敏度的测量模式等优点。
- 专利类型实用新型
- 申请人聚光科技(杭州)股份有限公司;
- 发明人梁炎;刘立鹏;郑毅;
- 地址310052 浙江省杭州市滨江区滨安路760号
- 申请号CN201220756835.6
- 申请时间2012年12月29日
- 申请公布号CN203053917U
- 申请公布时间2013年07月10日
- 分类号G01N27/62(2006.01)I;
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