摘要：本实用新型公开了一种旋转可调α源照射装置，其特征在于：包括有支架，所述支架上架设有回转平台，所述回转平台上设有多个样品培养皿，所述回转平台下方的支架上架设有可升降的α源照射机构，所述回转平台由电机驱动。本实用新型设计合理，通过调节放射源高度，样品台转速，粒子出口角度等方式对细胞所受辐射的剂量进行调节，具有造价便宜，可进行不同剂量，剂量率和LET照射，照射剂量准确，可控性好等性能。
- 专利类型实用新型
- 申请人合肥聚能电物理高技术开发有限公司;
- 发明人吴杰锋;刘志宏;薛延河;陈建林;张怀斌;商明明;
- 地址230031 安徽省合肥市蜀山区董铺岛
- 申请号CN201220092189.8
- 申请时间2012年03月13日
- 申请公布号CN202658160U
- 申请公布时间2013年01月09日
- 分类号C12M1/42(2006.01)I;
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