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    一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备

      摘要:本实用新型提供一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备,包括:加热源(1)、支柱(4)、多组传输机构与多块隔板(10);每组传输机构包括传动轴(9)、两个轴承座(8)与多个滚轮(5),传动轴(9)通过两个轴承座(8)安装于支柱(4)上,传动轴(9)上间隔固定滚轮(5),滚轮(5)上还固定有橡胶圈(6);隔板(10)通过螺钉(3)固定于支柱(4)上,隔板(10)上对应橡胶圈(6)的位置开有方孔(11);其特征在于,所述的隔板(10)上在两传输机构间的位置设有凹槽(12)。有效解决了高温下隔板变形的问题。节约了成本。保证了基片传送系统的平稳运行以及镀膜环境的稳定性,确保了膜层质量,有效提高了真空镀膜设备的安全性和可靠性。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人北京北仪创新真空技术有限责任公司;
    • 发明人刘洁雅;
    • 地址102600 北京市大兴区大兴工业开发区前高米店盛坊路仪器仪表基地
    • 申请号CN201120234915.0
    • 申请时间2011年07月05日
    • 申请公布号CN202148346U
    • 申请公布时间2012年02月22日
    • 分类号C23C14/00(2006.01)I;