摘要：本实用新型涉及用于刻蚀电子产品上银浆的装置，高频率短脉冲激光器的输出端布置有光闸，光闸的输出端设置有扩束镜，扩束镜的输出端依次布置有1/2波片和格兰棱镜，格兰棱镜的输出端布置有45度全反射镜，45度全反射镜的输出端依次布置有振镜和扫描场镜，扫描场镜正对于四轴吸附平台，四轴吸附平台上安装有同轴吹吸气集尘系统，四轴吸附平台对角位置分别安装有CCD对位观察系统。采用高频率红外脉冲激光器作为激光源，通过对角线CCD抓靶加工材料的靶标位置，确定加工图形与平台上的样品位置一一对应，对不同触摸屏产品中不可视区域银浆或者铜薄膜或钼铝钼层进行蚀刻，使不可视区域的薄膜材料在高频率短脉冲红外激光器作用下气化而达到蚀除目的。
- 专利类型实用新型
- 申请人苏州德龙激光有限公司;江阴德力激光设备有限公司;
- 发明人赵裕兴;狄建科;张伟;
- 地址215021 江苏省苏州市工业园区苏虹中路77号
- 申请号CN201120158366.3
- 申请时间2011年05月18日
- 申请公布号CN202123319U
- 申请公布时间2012年01月25日
- 分类号B23K26/36(2006.01)I;B23K26/04(2006.01)I;B23K26/14(2006.01)I;
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