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    多晶硅制绒槽

      摘要:本实用新型公开了一种多晶硅制绒槽,包括:反应槽(2)、外槽(1)、安装在所述反应槽(2)上的进液管路、和安装于所述外槽(1)上的溢流管路,所述反应槽(2)部分置于所述外槽(1)中,所述进液管路上设有调节阀,可对反应槽(2)进液量进行控制,并通过在外槽(1)上设置液位传感器,使外槽(1)的溢流量可根据外槽(1)的进液量的大小自行进行相应的调节。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
    • 发明人于皓洁;张琳;
    • 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层
    • 申请号CN201020629838.4
    • 申请时间2010年11月23日
    • 申请公布号CN201864794U
    • 申请公布时间2011年06月15日
    • 分类号C30B33/10(2006.01)I;