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一种X射线显微透射成像用窗口

　　摘要：本实用新型涉及一种用于同步辐射X射线透射显微成像时承载工具，特别涉及一种X射线显微透射成像用窗口，包括控制厚度的硅晶片衬底、氮化硅薄膜窗口沟槽、控制厚度的低应力氮化硅薄膜，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅薄膜，比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。本实用新型的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域氮化硅薄膜窗口成膜光滑，强度大、致密性好，表面平整性很稳定(粗糙度小于1nm)，可应用于高温领域，具备较好的薄膜窗格透光性能。

专利类型实用新型
申请人上海纳腾仪器有限公司;
发明人侯克玉;贺周同;孔旭东;王晟;
地址201616 上海市松江区小昆山镇秦安街18号A区3号房H座
申请号CN201020214623.6
申请时间2010年06月01日
申请公布号CN201689695U
申请公布时间2010年12月29日
分类号G21K7/00(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;C23F1/12(2006.01)I;