摘要：本实用新型公开了一种硅片喷淋清洗槽，设有槽体，其特征在于：槽体内可放置硅片清洗花篮(9)，在槽体(1)的一端设有平移气缸(6)，该气缸上通过固定块(7)固定装有水平移动的平移喷淋管(2)，该喷淋管上设有喷嘴(3)；在槽体一端的下部设有升降气缸(5)，该气缸通过安装板(8)固定装有在槽体内两侧升降移动的两个升降喷淋管(4)，该喷淋管上设有喷嘴(3.1)。本实用新型适用于硅片整篮进行清洗，操作简便，能全方位均匀清洗，不损伤硅片。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人于皓洁;杜飞龙;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN200920109664.6
- 申请时间2009年06月30日
- 申请公布号CN201440405U
- 申请公布时间2010年04月21日
- 分类号H01L21/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;
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