摘要:本实用新型涉及一种金属射频反应室,设有腔体、电极板,其特征在于:所述腔体(1)为不锈钢材质的方形腔体,其前面设有不锈钢门(2),腔体内壁的左右侧面分别设有射频电极板(3.1、3.2),所述腔体底部设有可转动的工件托盘(4),工件托盘通过连接轴与腔体外的电机(5)传动连接,所述腔体内顶部设有多孔气体导流板(6),腔体顶板上设有进气孔(7),腔体底板上设有与真空泵连接的排气管(8)。所述腔体上设有工艺观查窗(10)和真空检测口(9)。本实用新型适用于硅片加工,结构新颖,操作灵活,加工效果好,使用寿命长,对环境不污染。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人刘薇;王广明;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN200920109665.0
- 申请时间2009年06月30日
- 申请公布号CN201438453U
- 申请公布时间2010年04月14日
- 分类号H01L21/00(2006.01)I;