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    磁控溅射镀膜设备

      摘要:本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备,包括抽真空机组、与该抽真空机组连接的镀膜箱,所述磁控溅射镀膜设备还包括铰接于镀膜箱左侧的左门盖、铰接于镀膜箱右侧的右门盖,所述左门盖与所述右门盖均设有工件装夹装置。该磁控溅射镀膜设备的一个门盖关闭进行抽真空以及磁控溅射镀膜的过程的同时,可以在另一个门盖上对已经完成镀膜的工件进行拆卸并装夹待镀膜的工件,使得整机工作效率大大提高,既具有平面溅射靶的镀膜功能又具有旋转圆柱溅射靶的镀膜功能;其中工件装夹装置具有复合旋转功能,使得镀膜过程更加均匀,得到更好的镀膜效果。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人广东中环真空设备有限公司;
    • 发明人王健文;李学欧;蔡东锋;梁凯基;李劲川;
    • 地址526020 广东省肇庆市厂排街一巷60号
    • 申请号CN200920058010.5
    • 申请时间2009年06月08日
    • 申请公布号CN201437550U
    • 申请公布时间2010年04月14日
    • 分类号C23C14/35(2006.01)I;