摘要：本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉炉体，设有主体、顶盖、基座，主体为一直立圆筒形，由内到外依次设有炉丝、炉丝支撑件、保温棉层、内壁、冷却管、外壁，炉丝由炉丝支撑件支撑固定，保温棉层设置在内壁内侧，在内壁和外壁之间设置冷却管；设有多个热电偶、炉丝引线穿过保温层、内壁、外壁，横向固定在内壁上；在主体上口沿设有环形顶块，顶块中间设有顶盖，下口设有底块，顶盖、顶块、保温棉、底块组成保温层，保温层固定在内壁上；冷却管和外壁也固定在内壁上；内壁固定在基座上，基座上设有冷却密封槽和进出水口。本实用新型适用于300mm硅片进行氧化、退火等工艺，温度控制精确，具有高质量、高寿命、高效率的特点。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人钟华;盛金龙;程朝阳;胡星强;艾伦·埃马米;
- 地址100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN200820124688.4
- 申请时间2008年12月17日
- 申请公布号CN201382675Y
- 申请公布时间2010年01月13日
- 分类号F27B1/00(2006.01)I;F27B1/10(2006.01)I;
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