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    真空镀膜用“U”形真空室

      摘要:本实用新型提供了一种新型真空镀膜用“U”形真空室,所述“U”形真空室包括一底板以及位于底板两侧的侧板,其特征在于:所述真空室底板及侧板之间为无缝“U”形结构。本实用新型具有结构简单、节省材料、安全性能高的特点。
    • 专利类型实用新型
    • 申请人北京北仪创新真空技术有限责任公司;
    • 发明人张迎春;刘洁雅;李佳;袁青春;
    • 地址102600北京市大兴区大兴工业开发区前高米店盛坊路仪器仪表基地
    • 申请号CN200720103860.3
    • 申请时间2007年03月16日
    • 申请公布号CN201010690Y
    • 申请公布时间2008年01月23日
    • 分类号C23C14/56(2006.01);