摘要：一种用于化学气相沉积(CVD)反应器的自定心晶片载体系统，其包括晶片载体，晶片载体包括边缘。晶片载体至少部分地支承晶片以便进行CVD处理。旋转管包括边缘，边缘在处理期间支承晶片载体。晶片载体的边缘几何结构和旋转管的边缘几何结构经选择在过程期间在所期望的过程温度提供晶片载体的中心轴线与旋转管的旋转轴线的重合对准。
- 专利类型发明专利
- 申请人维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司;
- 发明人S·克里士南;A·I·古拉雷;张正宏;E·马塞罗;
- 地址美国纽约
- 申请号CN201610457472.9
- 申请时间2016年06月22日
- 申请公布号CN106256929A
- 申请公布时间2016年12月28日
- 分类号C23C16/458(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I;
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