一种硅溶胶抛光膜及其制备方法与应用

　　摘要：本发明涉及精密或超精密抛光技术，具体涉及一种硅溶胶抛光膜及其制备与应用，所述硅溶胶抛光膜包括柔性衬底层和涂覆形成于所述柔性衬底层表面的抛光研磨层；所述抛光研磨层是由包括经表面改性后的纳米水性硅溶胶和水性树脂胶粘剂的原料混合体在所述柔性衬底层表面所形成的固化干燥层。本发明通过采用对水性硅溶胶进行表面改性，并将其作为核心原料制备抛光研磨层，有利于改善研磨层在柔性衬底上的附着力及提高抛光寿命。本发明所述硅溶胶抛光膜主要用于光纤连接器和光纤阵列的最终抛光，也可用于精密光学器件的超精密加工。经过该硅溶胶抛光膜抛光后，被抛光器件的表面将变得很光滑、甚至呈镜面，器件表面无任何凹坑、划伤或异物黏着等不良现象。

专利类型发明专利
申请人北京国瑞升科技股份有限公司;
发明人吴月英;程丽芳;
地址100085 北京市海淀区上地信息路12号1号楼C402、C406室
申请号CN201610480193.4
申请时间2016年06月27日
申请公布号CN106117582A
申请公布时间2016年11月16日
分类号C08J7/04(2006.01)I;C09D133/02(2006.01)I;C09D167/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D175/04(2006.01)I;C09D133/00(2006.01)I;B24D11/00(2006.01)I;