摘要：本发明涉及光学领域，尤其是涉及一种动态惰性气体基底拟合方法。本发明首先采集氩气基底图谱并氩气基底数学拟合，然后计算计算修正系数；接着再采集样气图谱并拟合样气基底，然后根据修正系数进行拟合基底修正；最后计算谱峰面积和浓度的计算。本发明将数学拟合基底和惰性气体基底的优点进行合并，同时又互补了彼此的缺点。新方案得到的基底由样气图谱拟合得到，随实际图谱动态变化，同时又加入了惰性气体图谱得到的修正系数，能够更好的体现出仪器自身固有的一些微小特征，使得基底计算产生的系统误差更低。
- 专利类型发明专利
- 申请人武汉四方光电科技有限公司;
- 发明人熊友辉;李立;江坤;刘志强;
- 地址430205 湖北省武汉市东湖新技术开发区凤凰产业园凤凰园三路3号
- 申请号CN201610050657.8
- 申请时间2016年01月26日
- 申请公布号CN105675580A
- 申请公布时间2016年06月15日
- 分类号G01N21/65(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
