摘要：本发明公开了一种投影融合暗场处理方法，包括：确定暗场处理参数，在接收到输入图像后，根据输入图像中的每个像素点的位置信息，获取位于暗场处理区域内的像素点；根据暗场处理区域内的各个像素点的亮度信息，获取位于暗场处理亮度范围内的像素点；根据暗场处理亮度范围内的各个像素点的颜色信息，依次获取对应颜色的暗场叠加曲线，并分别从暗场叠加曲线上获取与各个像素点的亮度值对应的各个暗场叠加值；分别将各个暗场叠加值附加在相应的像素点当前的亮度值上，以得到暗场处理后的像素点。本发明还公开了一种融合设备。本发明实现了对暗场像素点的亮度进行精准地调整，提高了投影融合暗场处理的效率及改善图像显示效果。
- 专利类型发明专利
- 申请人深圳市创凯智能股份有限公司;
- 发明人马超;李志鸿;
- 地址518000 广东省深圳市南山区西丽街道科技园北区松坪山新西路7号兰光科技大楼B座212单位
- 申请号CN201510752772.5
- 申请时间2015年11月06日
- 申请公布号CN105430365A
- 申请公布时间2016年03月23日
- 分类号H04N9/31(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
