摘要：本发明公开了一种瓷负型造迹的方法，先用泥与釉料混合（形成自己想要的色彩），再用此釉料及泥在泥胎上塑造自己想要的形态，待釉料干燥后，再剔除使剥离泥及釉料而残留下迹象即“负型”，再进窑炉烧制而成瓷。或者在已经施了釉料的泥胎上塑造所需要的型，等待干燥后剥离所造正型，在此前釉料上留下负型痕迹。本发明瓷负型造迹的方法能够有效地减低釉料由于热膨胀拉伸或冷切导致的釉断泥胎、泥板的现象发生，减少由于釉料堆积过高、过厚而引起的“缩釉”现象发生。
- 专利类型发明专利
- 申请人常熟理工学院;
- 发明人王昭旻;
- 地址215500 江苏省苏州市常熟市南三环99号
- 申请号CN201510269390.7
- 申请时间2015年05月25日
- 申请公布号CN104924828A
- 申请公布时间2015年09月23日
- 分类号B44C5/00(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
