摘要：本发明涉及领域，公开了一种光催化反应系统的防护装置，包括箱体和光源支架，箱体包括箱体本体、上前舱门、下前舱门和后舱门，箱体本体具有上部空间和下部空间；上部空间分为密封层和操作层；密封层通过后舱门密封，用于安装光催化反应系统的系统主体；操作层通过上前舱门密封，用于安装光催化反应系统的系统阀组；下部空间通过下前舱门密封，用于安装光催化反应系统的反应器；下前舱门设有光窗，光源支架安装在与光窗相对应的位置，用于安装光催化反应系统的光源；箱体上设有惰性气体充填机构，用于向密封层、操作层和下部空间充填惰性气体。可以为负压条件下进行的光催化反应系统提供稳定的反应及测试环境，减少环境对光催化反应及测试的影响。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京泊菲莱科技有限公司;
- 发明人刘晓霞;刘忠宝;刘彬;陈磊;李阵;
- 地址100039 北京市海淀区永定路88号长银大厦11A08
- 申请号CN201410361314.4
- 申请时间2014年07月25日
- 申请公布号CN104162396B
- 申请公布时间2016年01月13日
- 分类号B01J19/12(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
