摘要：本发明公开了一种WS2带孔纳米片/石墨烯复合纳米材料及其制备方法，其由WS2带孔纳米片与石墨烯复合构成，WS2带孔纳米片是单层或少层数的，WS2与石墨烯之间的物质的量之比为1:1?1:3。其制备方法是首先将氧化石墨烯超声分散在去离子水中，再加入阳离子型柱[5]芳烃超分子，并充分搅拌，然后依次加入L?半胱氨酸和硫代钨酸铵，充分搅拌使其溶解，将上述混合分散体系转移到水热反应釜中，于230?250℃下水热反应20?24?h后，自然冷却至室温，离心收集固体产物，洗涤、干燥、热处理获得。本发明的方法具有简单、方便的特点，不需要消耗有机溶剂。
- 专利类型发明专利
- 申请人浙江大学;
- 发明人陈卫祥;叶剑波;马琳;王臻;
- 地址310027 浙江省杭州市浙大路38号
- 申请号CN201410339886.2
- 申请时间2014年07月17日
- 申请公布号CN104091932B
- 申请公布时间2016年09月14日
- 分类号H01M4/36(2006.01)I;H01M4/139(2010.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;
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京公网安备11010802043465号
