摘要：本发明公开了一种用于半导体制造的氧化炉保温桶及氧化方法，该保温桶包括底座、固定于底座上的限位柱、至少一片鳍片，该鳍片被限位柱阻挡以防止掉落并平行层叠于底座上，该鳍片之间具有一间隙。本发明的保温桶具有可拆卸式的一片或多片鳍片，通过支柱安装在保温桶的底座上，根据不同湿氧工艺温度需求来调整鳍片的数量，能有效防止低工艺温度时水蒸汽形成的水珠对工艺和器件产生的不良影响，同时避免高工艺温度对工艺门密封部件造成的损伤。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人林伟华;兰天;宋辰龙;王兵;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN201410117707.0
- 申请时间2014年03月27日
- 申请公布号CN103871940A
- 申请公布时间2014年06月18日
- 分类号H01L21/673(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
