摘要：一种多腔室CVD处理系统，包括多个基片载体，其中，每个基片载体用于支承至少一个基片。多个外壳每个构造成用以形成沉积腔室，该沉积腔室包围多个基片载体中的一个基片载体，以保持用来执行处理步骤的独立化学沉积过程化学性质。运输机构按离散步骤将多个基片载体中的每一个基片载体运输到多个外壳中的每一个外壳，这允许在多个外壳中在预设定时间内执行处理步骤。在一些实施例中，基片载体可以是可转动的。
- 专利类型PCT发明
- 申请人维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司;
- 发明人A·帕兰杰佩;E·A·阿莫尔;W·E·奎恩;
- 地址美国纽约
- 申请号CN201280035420.2
- 申请时间2012年07月02日
- 申请公布号CN103703544A
- 申请公布时间2014年04月02日
- 分类号H01L21/205(2006.01)I;
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