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    半导体热处理设备的温控方法

      摘要:本发明涉及一种半导体热处理设备的温控方法,半导体热处理设备包括炉体和设于炉体中的工艺管,晶圆在工艺管中进行半导体工艺,炉体包括多个温区,每一温区中设有至少一超温热偶和多个控温热偶,超温热偶用于感测温区中的温度,控温热偶用于调节温区中的温度,方法包括如下步骤:a)、对超温热偶与控温热偶的报警信号进行加权评分;b)、若评分不低于第一阈值,则停止向半导体热处理设备输出电功率。该方法增加了实施停止加热措施时的可信度,还可通过对主、辅控温热偶的调整,有针对性地采用不同的控温模式,更好地保证设备的可靠稳定运行。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
    • 发明人张乾;王艾;
    • 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
    • 申请号CN201310688368.7
    • 申请时间2013年12月16日
    • 申请公布号CN103677009B
    • 申请公布时间2016年06月01日
    • 分类号G05D23/22(2006.01)I;