摘要:本发明公开了一种多元物质原子层沉积膜制备方法和装置,所述方法,即使基片相对于原子层沉积反应腔直线运动,依次通过其内用于完成不同原子层沉积的原子层沉积系统,基片通过每个原子层沉积系统时:调整基片温度为相应原子层沉积反应最适温度。所述装置,包括原子层沉积反应腔、基片承载台、运动平台和温度控制装置;原子层沉积反应腔依次设置有多个原子层沉积系统;基片承载台,设置在原子层沉积反应腔下方;运动平台,与基片承载台连接,带动基片承载台运动;温度控制装置,设置在基片承载台下方。所述方法能高效快速的制备多元物质原子层沉积膜,所述装置,能方便的通过现有原子层沉积系统组装,兼容性强,功耗低,沉积效率高。
- 专利类型发明专利
- 申请人华中科技大学;
- 发明人陈蓉;褚波;何文杰;高玉乐;单斌;文艳伟;
- 地址430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 申请号CN201310636805.0
- 申请时间2013年12月02日
- 申请公布号CN103668120B
- 申请公布时间2016年04月13日
- 分类号C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;