摘要：本发明提供一种用掺杂二氧化硅溶胶制备减反射膜的方法，包括步骤：首先分别以酸与氨水作催化剂制备酸性与碱性二氧化硅(SiO2)溶胶，之后将碱性SiO2溶胶中的氨分离出形成中性溶胶，再将中性SiO2溶胶与酸性SiO2溶胶混合用作镀膜液，最后提拉镀膜烧结制得样品。本发明方法制得的减反射膜克服了酸性二氧化硅减反射膜硬度大但透过率低，碱性二氧化硅减反射膜透过率高但硬度小的不足，制备膜层兼具酸性碱性减反射膜的优点。本发明方法制得的减反射膜具有耐候性好的特点，并且具有宽带增透效果。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京市太阳能研究所集团有限公司;
- 发明人王启;朱敦智;李金标;
- 地址100089 北京市海淀区花园路3号
- 申请号CN201310586865.6
- 申请时间2013年11月21日
- 申请公布号CN103613279A
- 申请公布时间2014年03月05日
- 分类号C03C17/23(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
