摘要：本发明公开了一种利用原子层沉积技术对荧光粉包覆纳米级氧化物薄膜的方法，包括如下步骤：1）打开微纳尺度粉体保护层包裹装置的外部腔体，取出内部的粉末反应装置，将荧光粉放入后，密封外部腔体；2)开启高纯氮气作为载气，开启普通气体作为脉冲气体；3)设置参数；4)选择沉积模式；5）沉积参数设置；6)设置腔体转速；7）开启真空泵；8)开始循环沉积。本发明工艺在之前发明的装置的基础上，通过调整工艺参数，实现了原子层沉积（ALD)技术在荧光粉外围包覆隔膜薄膜层以提高其性能的目的，对各类荧光粉的包覆都能达到单层包覆，且包覆膜非常致密。
- 专利类型发明专利
- 申请人无锡迈纳德微纳技术有限公司;
- 发明人左雪芹;梅永丰;
- 地址214028 江苏省无锡市新区长江南路35号空港产业园科技商务中心B栋603室
- 申请号CN201310527174.9
- 申请时间2013年10月31日
- 申请公布号CN103556129A
- 申请公布时间2014年02月05日
- 分类号C23C16/455(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;
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京公网安备11010802043465号
