• 首页
  • 装备资讯
  • 热点专题
  • 人物访谈
  • 政府采购
  • 产品库
  • 求购库
  • 企业库
  • 品牌排行
  • 院校库
  • 案例·技术
  • 会展信息
  • 教育装备采购网首页 > 知识产权 > 专利 > CN103226294A

    一种提高曝光图形位置精度的光刻系统及方法

      摘要:本发明公开了一种提高曝光图形位置精度的光刻系统及方法,通过平台位置同步信号和连续时间周期脉冲信号输出,触发空间光调制器同步图形换行,实现直写扫描式曝光。通过采用这种脉冲信号触发扫描方式的系统能够提高扫描图形的位置精度和减小图形大小误差。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人苏州微影光电科技有限公司;
    • 发明人朱亮;张雷;
    • 地址215000 江苏省苏州市张家港市大新镇海坝路
    • 申请号CN201310151342.9
    • 申请时间2013年04月27日
    • 申请公布号CN103226294A
    • 申请公布时间2013年07月31日
    • 分类号G03F7/20(2006.01)I;