摘要：本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中循环流动；以及热交换器（6），所述浸液管路和工艺冷却液回路同时流经该热交换器（6），利用该热交换器（6）完成工艺冷却液和浸液的热交换，获得具有稳定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。本发明的装置采用内部回流结构与热交换器相结合实现对浸液温度的控制，可以实现浸没光刻中对浸液稳定的精确稳定的控制，提供温控效率。
- 专利类型发明专利
- 申请人华中科技大学;
- 发明人李小平;石文中;汤中原;何俊伟;
- 地址430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 申请号CN201310079232.6
- 申请时间2013年03月13日
- 申请公布号CN103176370B
- 申请公布时间2015年04月15日
- 分类号G03F7/20(2006.01)I;G05D23/20(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
