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    一种GaN基外延片衬底的回收方法

      摘要:本发明公开了一种GaN基外延片衬底的回收方法,属于半导体技术领域。所述方法包括:将GaN基外延片放入真空的反应腔内;向所述反应腔内通入还原气体和催化气体,以使所述GaN基外延片的GaN在真空下发生还原反应。本发明通过将GaN基外延片放入真空的反应腔内,向反应腔内通入还原气体和催化气体,以使GaN基外延片的GaN发生还原反应,将GaN基外延片的GaN还原成单质镓和氨气,从而与衬底分离。该方法在高温环境下对衬底材料无物理和化学性损伤,保持了衬底的完整性,且该方法原理简单,过程可控,可以使GaN的分解速率较高,从而提高了衬底回收的速度。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人华灿光电股份有限公司;
    • 发明人皮智华;刘榕;张建宝;
    • 地址430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号
    • 申请号CN201310021876.X
    • 申请时间2013年01月21日
    • 申请公布号CN103137439A
    • 申请公布时间2013年06月05日
    • 分类号H01L21/02(2006.01)I;