摘要：本发明公开了一种化学气相沉积固态前驱体连续供给系统，由真空室、真空机组、化学尾气吸附器、化学尾气处理器组成；真空隔离室位于真空室的上部,坩埚与发热体嵌入在真空室内,真空室外壁有进气口与可控固态前驱体挥发装置相连通，真空室下端有抽真空口与化学尾气吸附器连通,化学尾气吸附器通过真空机组和化学尾气处理器连通。该系统可实现固态前驱体的持续供给，通过伺服机构调整装料在炉中的位置达到精确控制固态前驱体挥发温度，进而精确控制前驱体流量；供给系统结构简单，易与常用的化学气相沉积设备兼容；有效地提高了固态前驱体在化学气相沉积过程中的可控挥发性、连续性和均一性，保证实现难熔金属碳化物涂层或基体的沉积。
- 专利类型发明专利
- 申请人西北工业大学;
- 发明人成来飞;王一光;张立同;刘小瀛;涂建勇;朱艳;
- 地址710072 陕西省西安市友谊西路127号646信箱
- 申请号CN201310000063.2
- 申请时间2013年01月04日
- 申请公布号CN103122457A
- 申请公布时间2013年05月29日
- 分类号C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;
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