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    一种腔室气流控制系统及方法

      摘要:本发明公开了半导体制造技术领域,特别涉及一种腔室气流控制系统及方法。本发明包括PCC控制器和至少一个腔室控制单元;腔室控制单元包括压力传感器、风机过滤器、和所述风机过滤器连接的状态检测单元、与所述压力传感器、风机过滤器和状态检测单元连接的数据处理单元、和所述数据处理单元连接的数据传输单元。本发明能够对腔室内的气体压力进行实时控制,使得腔室内的气体压力维持在设定值。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
    • 发明人张明;徐俊成;马嘉;
    • 地址100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
    • 申请号CN201210556490.4
    • 申请时间2012年12月20日
    • 申请公布号CN103041660A
    • 申请公布时间2013年04月17日
    • 分类号B01D46/46(2006.01)I;