摘要：本发明涉及半导体清洗工艺技术领域，具体涉及一种防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统。该防止液体飞溅的清洗装置，包括上壳和下壳，上壳可相对下壳上下运动，上壳包括上壳内壁和上壳外壁，上壳内壁和上壳外壁之间形成中空腔，上壳内壁上设有多个进液孔，进液孔与中空腔相通。本发明提供的防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统，通过在上壳上加设进液孔和中空腔，可实现在被清洗物的高速旋转过程中，化学试剂和/或清洗下来的颗粒通过进液孔进入中空腔内并通过排液孔排出，获得被清洗物的最佳的清洁效果；并且清洗装置和清洗系统的结构简单易清洗，工艺易实现，废液还便于收集。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人刘效岩;吴仪;冯晓敏;
- 地址100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
- 申请号CN201210494618.9
- 申请时间2012年11月28日
- 申请公布号CN102989705A
- 申请公布时间2013年03月27日
- 分类号B08B3/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
