摘要：本发明提供一种二氧化硅减反射膜的制备方法，包括步骤：1)用提拉镀膜的方法将硅酸盐溶液镀在玻璃表面；2）镀膜后的玻璃在100-120℃下烘烤20-30min；3）浸蚀：烘烤后的玻璃在95-98%重量比例的硫酸中浸蚀；4）烧结：硫酸浸蚀后的玻璃在200-500℃下烧结。本发明提出的方法所制备的覆有二氧化硅减反射膜的玻璃，其透过率在原有基础上提高了4~5%。制备的减反射硼硅玻璃在250~2500nm范围内均具有显著的增透效果，玻璃透过率由91.4%提高到96.1%，整体提高了4.7%，具有优异的减反射效果。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京市太阳能研究所集团有限公司;
- 发明人王启;谢光明;张英超;
- 地址100191 北京市海淀区花园路3号
- 申请号CN201210328686.8
- 申请时间2012年09月06日
- 申请公布号CN102838287A
- 申请公布时间2012年12月26日
- 分类号C03C17/23(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
