摘要：本发明提供一种用于均衡气体通道内气流的均衡装置，能够均衡气流在通道内的分布，使得气体充满整个气流通道。本发明包括固定支架和多个挡片，多个所述挡片沿所述固定支架的长度方向依次固定设置，所述固定支架能够套装在气体的通道内；所述挡片具有供气流通过的气流孔，以及阻挡气流以形成涡流的实体部。当有气体经过所述均衡装置时，所述挡片的实体部就会对气体进行阻挡，一部分气体会在挡片的阻挡下回流，回流的气体与后续进入的气体形成一个气流的锋面，构成涡流气体。也就是说，在固定支架所处的通道内充满了涡流气体。当安装有多个所述挡片的固定支架放置在气体的通道内时，通入的气体就能够充满并均匀地分布在该通道内。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京雪迪龙科技股份有限公司;
- 发明人郭雪松;
- 地址102206 北京市昌平区回龙观国际信息产业基地3街3号
- 申请号CN201210299576.3
- 申请时间2012年08月21日
- 申请公布号CN102829282A
- 申请公布时间2012年12月19日
- 分类号F16L55/00(2006.01)I;F16L23/00(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
