摘要：本发明公开一种提高芯片亮度的方法，该方法使用清洗溶液去除激光划片后产生的灰尘。清洗溶液组成成分为强碱、醇和蒸馏水。其中强碱可以为氢氧化钾，醇可以为乙醇。清洗溶液中的成分比例可以根据实际需要的效果进行改变。提高芯片亮度的方法的具体步骤为：首先使用无尘布蘸取清洗溶液，擦拭芯片背面后，使用纯水对芯片进行进一步的洁净，去除多余的离子。本发明所对应溶液的方法主要应用于紫外激光划片后灰尘的去除。本发明的优点在于：对于芯片的去除效果相对于直接利用无尘布擦拭的工艺好。成本低廉，本发明对应的方法还可以降低芯片倒膜过程中掉晶的风险和提高芯片封装后固晶的强度。
- 专利类型发明专利
- 申请人华灿光电股份有限公司;
- 发明人宋超;刘榕;张建宝;
- 地址430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号
- 申请号CN201210122450.9
- 申请时间2012年04月25日
- 申请公布号CN102626699A
- 申请公布时间2012年08月08日
- 分类号B08B3/08(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
